中間層

　中間層はスパッタ法とIBAD法（Ion Beam Assisted Deposition 法）で製造しています。
IBAD法は、アシストイオンビームをある角度から照射しながら酸化膜を成長させます。特定の方位を向いた結晶を成長させることにより表面状態を改善し、2軸配向構造を持つ酸化膜を得られる為、超電導線材の中間層基板の製造プロセスとして重要なプロセスです。